NIKKEI——日本经济新闻中文版

      北方华创采用的是被称为“自对准四重图案化(SAQP)”的技术，通过自对准工艺形成密度达到最初光刻的图案4倍的布线图案。与EUV光刻相比，制程复杂，良品率容易下降，但仍是避免使用EUV光刻的一种选择。该公司宣传称，通过使用自己的蚀刻设备，可以缓解制程的复杂性。

北方华创的展位以展板形式展示了尖端后工序和功率半导体设备等，吸引了众多关注(图片来源：日经XTECH)

      新凯来挑战日美企业的垄断地位

      新凯来虽然是2021年成立的新兴公司，但已拥有刻蚀设备、成膜设备、退火(热处理)设备、测量设备等广泛的产品群。由于该公司首次参加SEMICON China，因此受到了高度关注。该公司与致力于自主生产尖端半导体的华为也有合作关系。公司总部位于深圳市，在上海市和北京市等地拥有研发中心。

      新凯来瞄准的领域之一是TOKYO ELECTRON和美国泛林集团(Lam Research)激烈竞争的最尖端刻蚀领域。该公司开发出了面向尖端逻辑半导体和3D NAND的高选择性刻蚀设备“武夷山5号”。高选择性刻蚀不仅可以沿垂直方向，还能沿水平方向高精度地刻蚀3D结构的晶体管。2023年，该公司与华为共同获得了使用SAQP方式制造5nm工艺半导体的技术专利。

      据中国经济媒体钜亨网和《日经亚洲（NIKKEI Asia）》报道，新凯来还开发出了支持28nm工艺的半导体光刻设备。不过，在SEMICON China上并未以展板形式展示光刻设备。

新凯来在研讨会上发表演讲，介绍了深圳总部的外观等 (图片：日经XTECH)

      北京中电科电子装备(CETC Electronics Equipment Group)以展板形式介绍了支持离子注入、CMP(化学机械抛光)、涂胶显影、刻蚀、清洗、切割等的广泛产品群。该公司作为政府旗下中国电子科技集团(CETC)的子公司，于2013年成立。

      主要客户包括华为、中芯国际(SMIC)、华虹集团等。该公司还向政府旗下的中国兵器工业集团和中国兵器装备集团供应设备。

      特色业务之一是半导体光刻设备的改造和翻新。该公司为荷兰阿斯麦（ASML）控股、尼康和佳能的i线光刻设备和DUV(深紫外)光刻设备提供服务。

      中国或已触及EUV光刻设备

      据推测，中国也在寻求自主生产被禁止进口的EUV光刻设备。实际上，在SEMICON China会场就看到了暗示EUV光刻相关供应链存在的展示。

      从事半导体材料的中国杭州科百特过滤器材(Cobetter)展示了面向EUV光刻设备的光刻胶过滤器。该过滤器用于去除光刻胶(感光剂)中的颗粒。据负责人介绍，中国国内存在客户。

杭州科百特过滤器材展示了光刻胶过滤器 (图片：日经XTECH)

      中国企业开始涉足尖端封装

      在半导体行业，作为取代微细化提高半导体性能的手段，正在开发尖端封装。在SEMICON China上也可以看到中国企业的相关展示。中国企业不仅在前工序，在后工序也逐渐提高影响力。

     目前中国也新建了很多半导体工厂。中芯国际旗下企业正在推进逻辑半导体工厂的建设，长江存储也正在安徽省合肥市总部附近建设NAND工厂。

      TOKYO ELECTRON和SCREEN控股等日本设备企业的销售额中，面向中国的比例高达3～4成。在实力增强的中国企业全面扩大市场之前，日本企业也需要采取应对措施。

      久保田龙之介 日经XTECH

  
      资料来源：

      https://xtech.nikkei.com/atcl/nxt/column/18/00001/10536/

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