NIKKEI——日本经济新闻中文版

　　日本富士胶片公司与住友化学将于2021年以后涉足新一代半导体材料业务。这是在高性能小型半导体的最新生产工序中使用的材料，富士胶片在减少残次品的技术上拥有优势。新材料的供应增加将让量产尖端半导体更加容易。智能手机等电子设备有望进一步实现小型化和省电化。

　　尖端半导体生产技术被称为“EUV（极紫外线）”光刻，使用特殊光线将微细电路转印到基板上。新材料可用作此时的感光材料。　

富士胶片

　　富士胶片将投资45亿日元为静冈县的工厂引进设备，最早2021年内开始量产。新材料在转印后的工序中不易残留异物，可减少残次品。电路设计也将变得轻松。住友化学也将在2022年度之前在大阪市的工厂构建从开发到生产的一条龙体制。将利用其在传统型感光材料市场上占有的高份额，已有大型半导体厂商决定采用新材料。

　　美国苹果将在最新款手机的半导体上使用极紫外光刻技术。台积电正在推进相应尖端半导体的量产和细微化。新材料的普及有助于提高半导体的性能。

　　在半导体的细微化方面，目前最先进的是5纳米技术，台积电等企业的目标是3纳米。三星电子和英特尔也在应对极紫外光刻技术，加紧推进细微化。

　　在极紫外线使用的感光材料方面，日本企业掌握了全球约9成份额，JSR和信越化学工业处于领先地位。除了富士胶片等之外，韩国企业也在寻找涉足该领域的机会，今后围绕感光材料的竞争或将更加激烈。