日经中文网
NIKKEI——日本经济新闻中文版

  • 20xx 水曜日

  • 0708

  • 搜索
Home > 专栏/观点 > 专栏 > 佳能半导体纳米压印技术的真正实力

佳能半导体纳米压印技术的真正实力

2024/03/26

日经BP精选

佳能纳米压印光刻(NIL)装置成功实现了商业化,可用于制造5纳米级半导体,并且耗电量只有ASML公司EUV曝光装置的十分之一。此外,装置结构也很简单,因此虽未公布详细的价格,但比EUV曝光装置的价格要便宜……

敬请登录以便观看全部文章

如果您已经是日经中文网会员,请点击此处,进行登录。

如果您还不是日经中文网会员,请点击此处,进行会员免费注册。

版权声明:日本经济新闻社版权所有,未经授权不得转载或部分复制,违者必究。

报道评论

非常具有可参考性
 
96
具有一般参考性
 
1
不具有参考价值
 
4
投票总数: 101

日经中文网公众平台上线!
请扫描二维码,马上关注!

金融市场

日经225指数54245.54-2033.5103/04close
日经亚洲300i2593.96-134.2703/04close
美元/日元157.06-0.3803/0506:19
美元/人民元/close
道琼斯指数48739.41238.1403/0416:14
富时10010567.65083.52003/04close
上海综合4082.4740-40.202003/04close
恒生指数25249.48-518.6003/04close
纽约黄金5107.4-187.003/03close

关于日经指数